미세공정 (3) 썸네일형 리스트형 플라즈마 식각(Plasma Etching)의 원리 1. 왜 플라즈마 식각인가반도체 공정에서 회로는 포토리소그래피로 그려지지만, 실제로 물질을 제거해 구조를 만드는 단계는 식각이다. 미세화가 진행될수록 수직 방향으로만 정확히 깎아내는 이방성 식각이 필수적이며, 이를 가능하게 하는 기술이 바로 플라즈마 식각이다. 플라즈마는 기체를 전자와 이온, 라디칼로 분리한 상태로, 화학 반응성과 방향성 제어를 동시에 제공해 나노 스케일의 정밀 가공을 실현한다.2. 플라즈마란 무엇인가플라즈마는 고주파 전력 등으로 기체에 에너지를 가해 이온화시킨 상태다. 이때 생성되는 구성 종은 다음과 같다.전자: 낮은 질량, 높은 에너지로 충돌 이온화를 유도양이온: 전기장에 의해 가속되어 표면을 물리적으로 두드림라디칼: 화학 반응성이 매우 높은 중성 종으로 표면을 화학적으로 반응시킴메타.. 추재 킹 리우: FinFET 혁명 추재 킹 리우(Tsu-Jae King Liu) 교수는 미국 캘리포니아대학교 버클리캠퍼스(UC Berkeley)의 전기공학 및 컴퓨터공학과 교수로, 현대 반도체 산업의 핵심 구조인 FinFET(핀펫) 트랜지스터를 공동 발명한 인물이다. 그녀의 연구는 미세공정 시대의 전력 누설과 성능 저하 문제를 근본적으로 해결하며, 실리콘 소자의 진화를 이끈 결정적 전환점으로 평가받는다. 또한 학문적 성취뿐 아니라 리더십과 다양성의 상징으로서, 반도체 산업의 미래 세대에게 큰 영감을 주고 있다.학문적 배경과 연구 여정추재 킹 리우 교수는 캐나다 토론토에서 태어나, 스탠퍼드대학교에서 전기공학 박사학위를 취득했다. 이후 IBM과 베어링포인트 연구소에서 근무하며 실리콘 박막 트랜지스터 및 소자 신뢰성 연구를 진행했고, 1996.. 제임스 D. 플러머: CMOS 공정 혁신 제임스 D. 플러머(James D. Plummer) 교수는 미국 스탠퍼드대학교 전기공학과의 명예교수로, 현대 반도체 산업의 핵심인 CMOS(상보형 금속산화막 트랜지스터) 공정 기술 발전에 결정적인 역할을 한 인물이다. 그의 연구는 실리콘 공정의 물리적 한계를 규명하고, 미세화 과정에서 발생하는 전기적 문제를 해결하는 데 집중되었다. 또한 그는 교육자이자 공학 리더로서 수많은 반도체 엔지니어를 길러내며, 학문과 산업을 연결하는 실질적 다리 역할을 해왔다.학문적 배경과 경력플러머 교수는 미국 스탠퍼드대학교에서 전기공학 박사학위를 취득했으며, 이후 같은 대학에서 교수로 부임했다. 그는 스탠퍼드의 나노전자연구소(Nanoelectronics Laboratory)를 이끌며 반도체 소자 물리, 공정 기술, 나노구조 .. 이전 1 다음